制备基因探针方法：南京工业大学利用分子印迹开发新型选择性抗性基因降解技术

制备基因探针方法：南京工业大学利用分子印迹开发新型选择性抗性基因降解技术论文链接：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.est.9b06926

抗生素的不合理使用导致抗性细菌及抗性基因的大量产生，已经成为全球关注的焦点问题，据估计到2050年将会有每年上千万人因此而死亡。氯和紫外等水处理消毒技术虽然能够较为有效地杀灭抗性细菌，但并没有从根本上消除抗药性风险，因为抗性基因仍然保持活性。然而，氯和紫外等传统消毒技术很容易受水中污染物干扰，不能有效去除抗性基因。因此，发展具有选择性的抗性基因降解技术势在必行。

南京工业大学袁青彬老师和莱斯大学Alvarez J.J. Pedro教授合作，利用分子印迹能够选择性识别污染物的特征，开发了基于DNA分子印迹的抗性基因选择性光降解技术。本项目将DNA分子印迹负载到非金属和环境友好的C3N4光催化材料表面，能够选择性地识别抗性基因，经过紫外光（360nm）降解30min即可降解超过99.9%的抗性基因，在模拟污染物和实际污水中均表现出良好的选择性。此外，负载DNA分子印迹的C3N4还有效地实现抗性基因片段化降解，从而避免了抗性基因的再修复和重新表达。该技术为城市污水等环境中抗药性的控制提供了新思路。

研究成果已被环境科学类环境科学与工程领域顶级期刊Environmental Science & Technology接收，并于近日在线刊出，南京工业大学为第一单位。该研究受国家自然科学基金资助。

来源：南京工业大学

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https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.est.9b06926