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头部解剖学方法(头部结构的断面解剖学特点)

头部解剖学方法(头部结构的断面解剖学特点)1.中央沟在颅部横断层面上可依据以下特征辨认中央沟(图-1):①沟的深度:中央沟较深,自外侧向内侧延伸,并可有一条(中央后沟)或两条沟(中央前、后沟)与之相伴行;②中央前、后回的厚度:中央前回较中央后回宽厚,两者之间的沟即为中央沟;③沟的位置:以眶(眦)耳线为基线的横断层面上,中央沟均位于大脑半球上外侧面的前2/5与后3/5交界处。主要脑沟在横断层面上的识别方法下部是自鞍上池以下的层面,脑组织被大脑外侧窝池和小脑幕等分为数块,随层面下移则脑组织逐渐减少,不同层面的中央区之间的差异主要为脑池、脑干和第四脑室等的位置、形态的变化。颅部的冠状层面分为前、中、后三部分,前部为胼胝体膝出现以前的层面,以纵行的大脑镰将大脑半球分为左、右侧两部分,主要为端脑的额叶;中部主要为胼胝体、基底核区和脑室等所在的层面,胼胝体将左、右侧大脑半球连成一整体,不同层画的中央区之间的差异主要为基底核区和脑室系统等的位置

颅部断面的变化规律

颅部的横断层面分为上、中、下三部分

上部为胼胝体干和尾状核体出现以上的层面,大脑半球被大脑镰分隔为左、右两部分,以中央沟和顶枕沟将端脑断面分为额叶、顶叶和枕叶;

中部为基底核区和脑室等所在的层面,由胼胝体等连合纤维将左、右侧大脑半球连成一整体,不同层面的中央区之间的差异主要为基底核区、侧脑室和第三脑室等的位置、形态的变化,层面周边以中央沟和外侧沟将端脑分为额叶、顶叶和颞叶;

下部是自鞍上池以下的层面,脑组织被大脑外侧窝池和小脑幕等分为数块,随层面下移则脑组织逐渐减少,不同层面的中央区之间的差异主要为脑池、脑干和第四脑室等的位置、形态的变化。

颅部的冠状层面分为前、中、后三部分,前部为胼胝体膝出现以前的层面,以纵行的大脑镰将大脑半球分为左、右侧两部分,主要为端脑的额叶;中部主要为胼胝体、基底核区和脑室等所在的层面,胼胝体将左、右侧大脑半球连成一整体,不同层画的中央区之间的差异主要为基底核区和脑室系统等的位置、形态的变化,层面周边以中央沟和外侧沟将端脑分为额叶、顶叶和颞叶;后部为胼胝体压部以后的层面,大脑镰和小脑幕将脑组织分隔为三部分,以顶枕沟将幕上结构分为顶叶和枕叶。

颅部的矢状层面分为左侧、中、右侧三部分,左侧部为基底核出现以前的层面,以较深的外侧沟和中央沟将端脑分为额叶、顶叶和颞叶;中部为基底核区和脑室所在的层面,以正中矢状面形成对称关系,不同层面的中央区之间的差异主要为基底核区和脑室系统等的位置、形态的变化,层面周边以中央沟和顶枕沟将端脑分为额叶、顶叶和枕叶;右侧部的结构与左侧部基本相同,且呈对称性分布。

主要脑沟在横断层面上的识别方法

1.中央沟在颅部横断层面上可依据以下特征辨认中央沟(图-1):①沟的深度:中央沟较深,自外侧向内侧延伸,并可有一条(中央后沟)或两条沟(中央前、后沟)与之相伴行;②中央前、后回的厚度:中央前回较中央后回宽厚,两者之间的沟即为中央沟;③沟的位置:以眶(眦)耳线为基线的横断层面上,中央沟均位于大脑半球上外侧面的前2/5与后3/5交界处。

头部解剖学方法(头部结构的断面解剖学特点)(1)

图-1经中央旁小叶下份横断层面

中央沟前方为额叶,后方是顶叶;中央前回前方仅有一个脑回时为额上回,有两个脑回时为额上回(前方)和额中回(后方),有三个脑回时则自前向后分别为额上回、额中回和额下回。

2.外侧沟在颅部横断层面上可依据以下特征辨认外侧沟(参见图-2):①岛叶皮质:颅部横断层面上出现岛叶皮质后,与岛叶皮质呈垂直位的脑沟即为外侧沟;②蝶骨大翼:在颅前、中窝交界处的颅侧壁上,伸向颅腔内的突起为蝶骨大翼的断面,与该突起相对应的脑沟则为外侧沟。

头部解剖学方法(头部结构的断面解剖学特点)(2)

图-2经下丘横断层层面

横断层面上的外侧沟前方为额叶,后方是颞叶,颞上、中、下回在颞叶内自前向后依次排列。

中脑的横断层面解剖学特点

在颅部横断层面上,中脑可分为四部分(参见图-2),自前向后依次为:①大脑脚底:位于黑质的前方,其中间3/5有锥体束经过,内、外侧1/5分别有额桥束和顶枕颞桥束经过。②黑质:纵贯中脑全长,其背侧致密呈黑色;腹侧呈淡红棕色,含有大量的铁。③中脑被盖:在中脑上份的横断层面上,中脑被盖内有浑圆的红核。④顶盖:在中脑上、下份的层面分别为上丘和下丘,前者参与视觉反射,后者与听觉反射和听觉传导有关。

第四脑室的横断层面解剖学特点

在颅部横断层面上,第四脑室可分为上、中、下三部分,第四脑室的上部近似呈五角形,其前方为脑桥,后外侧是小脑上脚和齿状核(图-3);第四脑室的中部主要呈五角形,也可见三角形或新月形,在CT图像上常表现为凹面朝后的新月形或马蹄形低密度区;第四脑室的下部常呈菱形或三角形,其前方是延髓,后方为小脑扁桃体。

头部解剖学方法(头部结构的断面解剖学特点)(3)

图-3 经下丘横断层层面

帆间池在横断层面上的识别方法

在颅部横断层面上可依据以下特征辨认帆间池:①池的层面,位于第三脑室顶部的稍上方;②池的形态,呈尖伸向前方的三角形;③池的边界,帆间池的后界是胼胝体压部;④池内的结构,帆间池内有大脑内静脉通过。

小脑幕的横断层面解剖学特点

小脑幕在横断层面上的形态可因层面高低不同而有差异,了解小脑幕的形态特点有助于正确判断幕上结构或幕下结构。

在经窦汇以上的横断层面上,小脑幕与大脑镰后端连成Y形(图-4),由于大脑镰与小脑幕的交接处是自前上斜向后下,因此层面偏高时小脑幕被切得少,而大脑镰被切得多,两者连接成长Y形;当层面偏低时则呈宽Y形。

头部解剖学方法(头部结构的断面解剖学特点)(4)

图-4 经室间孔横断层层面

在经窦汇的横断层面上,大脑镰已消失,小脑幕直接与后方的窦汇相连按成V形(图-5)。V形和Y形“杯口”内的脑组织为幕下结构,主要是小脑上蚓和小脑上池;“杯口”之外是幕上结构,主要为端脑枕叶。

头部解剖学方法(头部结构的断面解剖学特点)(5)

图-5经视交叉横断层面

在经窦汇以下的横断层面上,小脑幕呈M形(即双峰形),随层面下移则呈八字形(图-6)。双峰形两峰之间的脑组织为幕下结构,两峰以外则为幕上结构。八字形以前的脑组织为幕上的端脑枕叶,八字形以后则为幕下的小脑。

头部解剖学方法(头部结构的断面解剖学特点)(6)

图-6 经小脑中脚横断层面

END ——

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