纳米膜与金属膜的区别（介质膜和金属膜的区别）

纳米膜与金属膜的区别（介质膜和金属膜的区别）金属膜金属膜可导电 具有良好的塑性、韧性和强度 以及对环境和物料的适应性 不具有任何周期性的性质 它的折射率很小 长波区域的特性比短波区域有所增强.电磁波传播中 决定电磁波传播性质的 就是介电常数.介电常数的实部对应于光传播时候的电场振幅的比例 而虚部则对应于光的能量损耗.金属和介质最大的区别在于 金属的介电常数可以用Drude模型描述 一般是一个负的实部和比较大的虚部;而介质的介电常数则一般是一个正的实部.既然金属有比较大的虚部 就会导致有损耗 光在经过金属反射的时候就会被吸收 反射率可能只达到98、99;而介质则不会 因此特定条件下 反射率能达到真正的百分百.另一方面 空气(也是一种介质)入射介质发生反射的话 因为是光疏介质(介电常数较小)到光密介质(介电常数较大) 有半波损失 会导致电磁波震荡的相位损失一个;而空气入射金属时 理想情况发生反射 必定会产生相位差.

介质膜

介质膜不导电 利用菲涅尔公式 通过一定折射率的材料 加上等倾干涉的条件 实现反射波相长 从而获得较大的反射率.具有干涉效应 具有随波长或厚度的变化而呈现周期性变化的性质.长波区域薄膜的特性比短波区域有所减弱.

半导体器件及集成电路中常用的薄膜包括介质膜(钝化膜及光学膜)和金属膜(单层和多层).介质膜往往用作为钝化保护、多层布线的中间介层SiO2、Al2O3、多晶硅等.

不同的介质膜按照一定的光学厚度又可以组合成光学膜 例如Ta2O5与SiO2组合等 可起到对某一波长的出射光的增透(减反射)或高反射的作用.金属膜中如Cr、Al、Ti、ZnAu、AuSn等金属及合金 主要用于N型P型半导体材料的肖特基接触、欧姆接触、阻挡层、金属引线及键合金属.在硅器件中还常用到一些硅化物 如TiSi、AlSiCu等金属硅化物.

金属膜

金属膜可导电 具有良好的塑性、韧性和强度 以及对环境和物料的适应性 不具有任何周期性的性质 它的折射率很小 长波区域的特性比短波区域有所增强.

电磁波传播中 决定电磁波传播性质的 就是介电常数.介电常数的实部对应于光传播时候的电场振幅的比例 而虚部则对应于光的能量损耗.金属和介质最大的区别在于 金属的介电常数可以用Drude模型描述 一般是一个负的实部和比较大的虚部;而介质的介电常数则一般是一个正的实部.既然金属有比较大的虚部 就会导致有损耗 光在经过金属反射的时候就会被吸收 反射率可能只达到98、99;而介质则不会 因此特定条件下 反射率能达到真正的百分百.另一方面 空气(也是一种介质)入射介质发生反射的话 因为是光疏介质(介电常数较小)到光密介质(介电常数较大) 有半波损失 会导致电磁波震荡的相位损失一个;而空气入射金属时 理想情况发生反射 必定会产生相位差.