手机纳米镀膜原料制作（手机视屏减反射膜的镀制工艺）

手机纳米镀膜原料制作（手机视屏减反射膜的镀制工艺）③温度：25～35℃②真空度：通入Ar、02，真空度为5 X 10-1Pa。(2)膜系一二层减反射膜十防水膜。膜系结构，如图1所示。(3)镀膜。采用连续式磁控溅射镀膜机进行反应沉积。①电源：Si靶用中频电源，Ti靶用直流十脉冲电源。

手机的彩色液晶显示屏上采用减反射保护膜，可降低人眼受到外界炫光刺激的影响，提升观看舒适度，并保护眼睛。常用手机的基材是PC或亚克力基材。这两种基材作为彩色液晶显示屏的保护屏，都存在反射率高的缺点。因为未经镀膜的保护屏界面至少有4.2%的反射率，在强光（如太阳光）的照射下，其反射光的强度会严重降低显示屏图像的对比度。所以，如对保护屏表面镀反射率小于0.5%的减反射膜，将会提高显示屏的清晰度。

在保护屏表面用磁控溅射方法分别镀上高折射率的Ti0₂膜和低折射率的Si0₂膜，使保护屏具有低反射增透的效果。由于PC或亚克力基材是有机材料，所以沉积温度应在30-35℃范围之内。

镀膜工艺

(1)基片-PMMA，PC。

(2)膜系一二层减反射膜十防水膜。膜系结构，如图1所示。

(3)镀膜。采用连续式磁控溅射镀膜机进行反应沉积。

①电源：Si靶用中频电源，Ti靶用直流十脉冲电源。

②真空度：通入Ar、02，真空度为5 X 10-1Pa。

③温度：25～35℃

④最后沉积防水膜IAF3。