天津光学镀膜机光控片原理(石英片磁控溅射镀膜的特点)
天津光学镀膜机光控片原理(石英片磁控溅射镀膜的特点)三、使用靶材时的注意事项3、不适宜制备较大面积薄膜.二、缺点1、一般镀膜速率较慢 每秒几十埃;2、离子源清理和中和器灯丝更换较频繁;
一、优点
1、靶材粒子能量高(比热蒸发高出1个数量级) 所制备膜层更致密 与石英片结合力更高:
2、一般备有辅助离子源 可以用来清洗石英片 清洗效果好;3、易于制备熔点高的材料;
4、制备合金膜层 可以保证膜层材料比例与靶材相同;5、由于装有中和器 也可以用来制备绝缘膜层.
二、缺点
1、一般镀膜速率较慢 每秒几十埃;
2、离子源清理和中和器灯丝更换较频繁;
3、不适宜制备较大面积薄膜.
三、使用靶材时的注意事项
1、靶材的外形尺寸要与机器要求的设计一致;
2、靶材外表与内在清洁度要高 是在洁净室内加工制成的;3、靶材的质量可据合同要求定制(高纯度99.99%、高密度、低气体含量 尺寸(银靶材约127×178×7mm 重量1.66Kg) 无裂纹 无孔洞);4、靶材的致密度要一致(可在显微镜下观察到);5、靶材在使用中要记录下该工序的各种数据 以便观察其变化及差距;6、使用银靶15000WH 铬靶25000WH时需更换新靶材;7、靶材的更换要严格按设备中的操作工艺执行;8、靶材使用后称重量(银靶材约1.25~1.3Kg)返回原供货商 加工后再使用 往返循环.
四、机器运行时的注意事项
1、保持机器内舱各部位的清洁;
2、关注真空度指标;
3、检查并记录抽真空的时间 如有延长 立刻检查造成的原因;4、记录溅射功率和时间(一般溅射机的银靶设定功率为0.6千瓦 金靶的设定功率为0.75千瓦 铬的行走速率为9000pps) 如有异常 立刻检查造成的原因;5、根据镀出石英振子的散差 调整遮挡板的各部尺寸;6、溅镀后的石英振子要用3M胶带检查其牢固度;7、测试并记录镀好的石英振子主要指标 如:频率、电阻、DLD等;8、将不良品挑出:电极错位、划伤、脏污、掉银等(工位上要有不良品示意图).
五、确定镀膜速率的方法:
1、计算镀膜引起的石英片厚度变化量△t
式中:
F白------"工艺流程卡"上该档白片频率范围的低端频率 F标------"工艺流程卡"上要求的标称频率.
3、依据后续微调工序采用蒸镀调频 镀膜频率FL留量范围 300~ 2500ppm;若微调工序采用离子刻蚀调频 镀膜频率FL留量范围-300~-2500ppm.(可根据各公司加工工艺要求按频率段分留量范围).
六、技术注意事项
1、石英片温度的影响:温度较低→薄膜颗粒小→晶界散射多→电阻率下降;温度较高→晶粒过大→缺陷增多→电阻率升高.
2、沉积时间的影响:沉积时间延长→薄膜厚度增加→透过率下降→电阻率下降;沉积时间过长→温度过高→晶粒过大→缺陷增多→电阻率升高.
3、溅射功率的影响:溅射功率增加→溅射粒子增多→粒子能量增加→膜层与石英片粘附力增加→膜层致密性增加;溅射功率过高→氩离子能量过大→陶瓷靶易开裂→溅射粒子能量过大→薄膜致密性下降.
4、氩气气压的影响:氩气气压过低→氩离子少→溅射原子少→薄膜薄→晶化率低;氩气气压过高→氩离子过多→碰撞增多→薄膜晶化率低.
5、靶基距的影响:距离过小→加速不够→动能过小→薄膜薄→晶化率低;距离过大→散射增大→部分粒子不能溅射到石英片上→轰击过大→薄膜致密性下降.