7nm光刻机到底有多厉害（这个世界上并不存在5nm光刻机）
7nm光刻机到底有多厉害（这个世界上并不存在5nm光刻机）很多朋友又会说了，为什么国外可以造出如此顶级的光刻机，中国不可以。ASML能够造出EUV极紫外光刻机，还要多亏了美国。目前全球最顶级的就是EUV极紫外光刻机，它是是用波长为 13.5 nm 的极紫外辐射作为曝光光源的光刻技术。一台 EUV 光刻机重达 180 吨，超过 10 万个零件，需要 40 个集装箱运输。这也是为什么其技术难度高的原因，一个看似简单的原理，在超高精度的制约下需要结合光学 材料 控制 电子 机械化学等最顶尖的技术，才能最终完成这以类人历史上几乎最精密的机械。光刻机的零件90%使用了世界最先进的加工技术，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上。如此困难的技术要求，造成了光刻机极低的产量，光刻机技术基本十年才会大更新一次。光刻机以光源的改变，共经历了5代的发展，以第四代浸没式光刻机来说，可以造28nm芯片，也可以造7nm芯片，说它是28
有许多朋友问我，国产5nm光刻机什么时候可以造出来，但是我要告诉大家，什么7nm光刻机、5nm光刻机，其实这样的说法是不准确的，在这个世界上，其实并不存在什么5nm光刻机。
什么是光刻机，利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。正如照相机拍摄照片是将影像印在底片上，而光刻机是将电路图和其他电子元件印在薄片上。
光刻机为什么重要，就是因为只有通过光刻机，把电路图和其他电子元印在硅片上，才有制造出芯片的可能
光刻机需要在一块指甲盖大小的硅晶片内，映射出几十亿甚至上百亿个微小的单元，目前最先进的光刻机能够加工的最细线条已经达到13nm。我们人类的头发丝直径在50μm—70μm左右，而利用光刻手段能刻画出头发丝直径1/5000的线条。古代人类通过手工方式在核桃上雕刻出一叶扁舟已属精妙绝伦，而利用信息时代的制造工具光刻机，我们能够在一根头发丝上刻画出一座足球场。
这也是为什么其技术难度高的原因，一个看似简单的原理，在超高精度的制约下需要结合光学 材料 控制 电子 机械化学等最顶尖的技术，才能最终完成这以类人历史上几乎最精密的机械。光刻机的零件90%使用了世界最先进的加工技术，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上。如此困难的技术要求，造成了光刻机极低的产量，光刻机技术基本十年才会大更新一次。
为什么说不存在5nm的光刻机光刻机以光源的改变，共经历了5代的发展，以第四代浸没式光刻机来说，可以造28nm芯片，也可以造7nm芯片，说它是28nm光刻机也没毛病，说7nm光刻机也没错。关键看晶圆代工厂掌握了什么样的制程工艺。
换句话来说，晶圆代工厂即使拥有最先进的设备，如果没有掌握相关的制程工艺，也是白费。就好像一套厨具，不同厨师使用效果是不一样的。
目前全球最顶级的就是EUV极紫外光刻机，它是是用波长为 13.5 nm 的极紫外辐射作为曝光光源的光刻技术。一台 EUV 光刻机重达 180 吨，超过 10 万个零件，需要 40 个集装箱运输。
中国为什么还造不出最顶级的EUV光刻机很多朋友又会说了，为什么国外可以造出如此顶级的光刻机，中国不可以。ASML能够造出EUV极紫外光刻机，还要多亏了美国。
美国联合欧洲，出动了国家三大实验室，联合美欧160多家科研单位耗费了十几年才攻克了EUV的理论难题。
而ASML在制造的时候，可以获取到全球最顶级的零件，光源采用美国的Cymer，透镜是德国的蔡司，2010年，ASML向台积电交付首台EUV研发设备TWINSCAN NXE:3100系统。
而中国不可能得到欧美的帮助，也不可能获取到全球最顶级的设备零件，事实上和光刻机有关的零件，美国全部向中国断供。
那中国真的就造不出来EUV光刻机吗？并不是，只不过速度要更慢，因为中国要造EUV光刻机，就连一颗螺丝钉都要自己造。
中国的目标，是要在2030年造出EUV极紫外光刻机，大家可能觉得，ASML2010年就已经开始量产光刻机，这会不会太晚了，事实上，这并不算太晚，我们通过不断地缩小所采用的光源的波长（EUV光源13.5nm），增强投影物镜的最小线条成像能力（提高数值孔径1.3）等方式，不断缩小能够加工的最小线宽。然而，这些方式使得我们光刻机的制造难度以及制造成本急剧增加，并且已逐步逼近物理极限。
所以ASML想要研发出下一代的光刻机，2030年前还是很难完成的。
事实上，现在全球市场上，第四代浸没式光刻机仍然是当前半导体制造的主力设备。无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求。终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长。
不过有一个坏消息就是， 美国正在向ASML施压，希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国，而这相比于EUV极紫外光刻机，所造成的影响将更为严重。
所以如果中国应该抓紧时间研制出第四代浸没式光刻机，并且能够掌握全国产7nm生产线，这样才不会受制于人。
